真空鍍膜機與高真空的關系

蒸發真空鍍膜機工作時真空材料蒸發出來的原子或分子不要受空氣分子的阻擋而直接濺落到固體的表面，這樣，鍍膜層形成的速度高，膜層結合力強，成膜質量也好。

反之，如果真空度低，有大量的空氣分子存在，一方面，蒸發真空鍍膜機蒸發出來的原子或分子與空氣分子碰撞，阻礙了膜材分子的擴散，降低了膜層形成的速度，影響了膜的均勻性與結合力；另一方面，空氣的導熱使得膜材的溫度不能很快地升高，必然要加大加熱功率；更有甚者，空氣的存在可能使膜材的某些成分氧化，引起成分變性；在連接著抽氣機的情況下，若不能很快完成鍍膜，膜料將被抽走。

因此，真空鍍膜機需要在高真空條件下進行工作；當然，真空度也不需要絕對的高。事實上，只要分子的平均自由程大于膜材到基底的距離即可。如果需要確保真空鍍膜產品厚度的均勻性，可使用真空鍍膜光密度在線測試儀來連續監控鍍膜品質。

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